【阿斯麦尔|26亿一台！ASML全新光刻机准备中：Intel提前锁定 冲击2nm工艺】

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对于芯片厂商而言 ， 光刻机显得至关重要 ， 而ASML也在积极布局新的技术 。 据外媒报道称 ， 截至 2022 年第一季度 ， ASML已出货136个EUV系统 。
按照官方的说法 ， 新型号的EUV光刻机系统 NXE:3600D将能达到93%的可用性 ， 这将让其进一步接近DUV光刻机（95%的可用性） 。
数据显示 ， NXE:3600D系统每小时可生产160个晶圆 (wph) ， 速度为30mJ/cm ， 这比 NXE:3400C高18% 。 二正在开发的 NXE:3800E系统最初将以30mJ/cm的速度提供大过195wph的产能 ， 并在吞吐量升级后达到220wph 。
据介绍 ， NXE:3600E 将在像差、重叠和吞吐量方面进行渐进式光学改进 ， 而在0.33 NA的EUV光刻机领域 ， ASML路线图包括到2025年左右推出吞吐量约为220wph的NXE:4000F 。
对于0.55 NA的光刻机 ， 需要更新的不但是其光刻机系统 。 同时还需要在光掩模、光刻胶叠层和图案转移工艺等方面齐头并进 ， 才能让新设备应用成为可能 。
根据ASML 在一季度财务会议上披露的数据 ， 公司的目标是在2022年出货55台EUV系统 ， 并到2025年实现（最多）90台工具的计划 。 ASML同时还承认 ，90台可能超过2025年的实际需求 ， 不过他们将其描述为为满足2030年1万亿美元半导体行业需求所做出的巨大努力 。
按照之前的说法 ， ASML正在研发新款光刻机 ， 价值高达4亿美元（约合26亿元人民币） ， 双层巴士大、重超200吨 。 原型机预计2023年上半年完工 ， 2025年首次投入使用 ， 2026年到2030年主力出货 。
这款机器应该指的就是High-NA EXE:5200（0.55NA） ， Intel是全球第一个下单的公司 。 所谓High-NA也就是高数值孔径 ， 2nm之后的节点都得依赖它实现 。

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