在传统的芯片制造产业中 , 提高芯片制程的方式很简单 , 要么是改进芯片架构 , 要么是使用ASML的EUV光刻机 。
在芯片架构方面 , 可探索的路都探索得差不多了 , 主流的就是FinFet , GAA等等 。 而ASML的EUV光刻机发展到高数值孔径系统就很难往下了 , 越往下发展难度和成本都会指数级上升 。
既然先进封装能带来显著的性能提升效果 , 因此能引领半导体黄金十年吗?恐怕很有可能 。
【阿斯麦尔|外媒:ASML或会“栽”在美企手中】
未来十年内必定会诞生出新的技术 , 材料 , 而先进封装是后摩尔时代的最佳解决方案之一 。 台积电、三星、中芯国际、英特尔等芯片制造商均在布局 , 而苹果、AMD、高通的芯片设计厂商同样对先进封装感兴趣 。
当然 , 先进封装在未来会走向何处还需要静观其变 , 目前先进制程仍然是半导体巨头提高芯片性能的主要方式 , 发展到2nm之后 , 还会尝试1.4nm , 1nm , 甚至进入到更先进的埃米时代 。
至于先进封装能否替代先进制程存在 , 还是成为未来芯片行业的发展主旋律 , 就让我们拭目以待 。
总结
ASML着急出货EUV光刻机 , 努力提高产能 , 可是芯片市场正发生产业重心偏移 , 逐渐将先进封装当成破局的关键 。 这对于ASML来说 , 会是一场考验 。
若美企带动了先进封装顶替先进制程 , ASML估计需要加大先进封装光刻机的研发了 , 而在这方面 , 就未必是ASML的主场了 。
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