光刻机|国产光刻机传来好消息，ASML也没想到，一切来得如此之快( 二 )

如今该生产基地项目已相继走过基建与洁净工程节点，即将进入设备安装调试阶段。基地面积总共为 12 万平方米，预计在 2023 年正式投产。该基地将用来进行大规模IC 制造投影光刻机曝光光学系统产品的设计研发，以及批量生产90nm、28nm 及以下节点芯片。

为何我们要聚焦28nm节点很多人可能会觉得奇怪， 28nm制程并不是目前最先进的工艺，为什么我们要对这个节点投入这么多呢。事实上，目前半导体市场最紧缺的还是28nm芯片， 7nm制程以下芯片基本是智能手机一类的电子设备才会用到。
从半导体市场的数据统计来看， 28nm以上的制程占市场总额的70%以上，再看看现在的一些国际大厂，如台积电和中芯国际，也都在扩建28nm节点的产能。从这就能看得出来，市场对28nm制程的需求量还是很广阔的。
尤其是目前智能汽车造车领域正处于上风口，对28nm制程芯片的需求正是强劲的时候，所以说， 28nm芯片前景光明。
从技术节点来说， 28nm制程也是一个分水岭， ASML和尼康等国际大厂的ARFi光刻机都只能做到38nm ，跨过28nm ，下一步我们便可以朝着7nm制程进发。

如今我们的28nm制程生产技术已经成熟， 7nm制程工艺也已经攻破，即将进入风险试产，届时我们自研的光学曝光系统和光刻设备齐全，那么我们的芯片国产化也就指日可待了。
对于我国要自研光刻机， ASML的高层领导人还曾轻蔑地表示：即使把光刻机的设计图纸给你们，你们也造不出来，而现在这个局面想必ASML也没想到。
写在最后如今我国已经成为全球最大的半导体市场， ASML无法对我国出货，无疑是失去了一个庞大的消费市场。对于我国自研光刻设备，大家有什么想法，欢迎在评论区留下您的想法。