贴膜|外媒：EUV光刻机事件再现了！( 二 )

原来美国不仅限制中国的企业引进光刻机，只要是光刻机，不论是哪国的企业都不能引入中国，其心险恶程度简直昭然若揭！可最近EUV光刻机时间再次发生了！
原来美国企业对中国的限制工艺是10纳米，如今他们开始考虑将原来的十纳米增加到14纳米，这就意味着对中国的限制个更强了。与此同时，美国还对美国企业下达了通知，要求各企业立即停止对中国企业14纳米以下的芯片制造设备的供应。

这样以来还真有中国当时制造核武器时的艰难了！不仅技术封锁，连学习的机会都没有了。但是中国会被就此打败吗？绝对不可能！我们当时既然能在那么艰难的情况下制造出我们的核武器，如今我们依旧能够攻破万难，突破技术堡垒，造出我们的光刻机和更先进的芯片！
结语：无数血的教训告诉我们，只有实现技术自主，才能拿到主动权。
不论是曾经核武器的研发，还是如今芯片的研发。试想如果中国没有核武器，美国难道不会比现在更嚣张吗？如果中国能够自主造出芯片，美国又哪里有底气如此嚣张！

【贴膜|外媒：EUV光刻机事件再现了！】归根结底还是一句话“发展才是硬道理”！相信只要我们不断努力，补齐短板，一定能够回到最强的模样！对此你有什么看法？评论区留言讨论一下吧！