光刻机|美国阻挠ASML向中国出货28nm光刻机，国内院士的呼吁是正确的( 二 )

在此之前，国内院士胡伟武就呼吁，我们不必学老美那样跟着做5nm ，把14nm、28nm做好就行。由于华为高端芯片无法量产，不少网友吐槽这是“不思进取” ，如今看来胡伟武的呼吁是正确的。在老美限制中企获取先进EUV光刻机之后，立马又瞄准了28nm成熟工艺作为目标，无非就是进一步限制国内半导体企业的发展。

总而言之
如今老美阻挠ASML向中国出口28nm等成熟工艺芯片制造设备，其影响是有限的。
一方面我们可以通过此前采购的光刻机进行28nm工艺芯片的生产，或许短期内会为代工企业的扩产带来一定的困难。

另一方面，国产光刻机巨头上海微电子今年年底之前就会交付第一台28nm国产沉浸式光刻机。外加上我国在先进蚀刻机、半导体材料等方面的可控优势，这也意味着国产芯片破局是迟早的。
【光刻机|美国阻挠ASML向中国出货28nm光刻机，国内院士的呼吁是正确的】不过我们也不能大意，毕竟芯片制造是马拉松比赛，我们不能停止前进的脚步，直至国产芯片体系成为不可撼动的“参天大树”！