光刻机|再见了，ASML？国产光刻机“破冰”关键一步( 二 )

光刻机制程时代的迈进是需要时间积累的，从光源区别来看，国产已经在DUV深紫外线领域取得不小的突破， DUV对应KrF、ArF、ArFi三种光源，目前正处在全力攻克ArF ，再往下就是EUV极紫外光线。
EUV光刻机造出的高端芯片并不能满足市面上所有需求，需求量更大的芯片往往是通过ArF光刻机造出来的。所以不用纠结距离EUV还有多远，先发展好当下，该有的迟早会有。
再见了， ASML？对于国产光刻机的发展状况， ASML似乎有些坐立不安了。表示如果再不出货，多年后中国就会掌握这项技术。而且ASML也认为不能太绝对否定中国造不出顶级光刻机，物理规则在中国同样有效。

就在6月上旬， ASML进一步展开中国市场的布局动作，计划招聘200名中国员工。
很显然， ASML打算用时间优势快速建立起夯实的地位，加紧对大陆市场中低端光刻机的出货量，把能够出货的设备都安排上。
可是这并没有阻止国产厂商对自主光刻机的研发，一旦国产28nm光刻机落地，并取得不输给ASML光刻机的性能水准，恐怕要说再见了， ASML 。

写在最后ASML不能实现EUV光刻机的自由出货，只能靠销售中低端的DUV光刻机倾销市场。这类光刻机范畴当中，国产正在加紧自主化的步伐。启尔机电的浸液系统突破是非常关键的一步，让国产28nm光刻机的到来走向现实。