光刻机|ASML不被指望了？新消息传来，外媒：光刻机方案失效了( 二 )

而事实也的确正朝着这个方向发展，首先，在中科院之外，上海微电子的国产光刻机已经逼近28nm制程，已经能够基本满足除手机之外的绝大部分设备的制程需求。

其次， EUV光刻机的光源问题已经被清华大学提及过方案，中科院也在加码，顶级学府和顶级科研单位的双向加持，再加上如今国内越来越多的芯片专业的开设，未来我们势必会拥有更多更强大的半导体领域的相关人才，这些后备人才都将助力我们突破EUV光刻机，这是大势所趋。

所以道理是一样的，也许当前我们在3nm及其以下的芯片设计软件上也存在着“空白”和不足，但是不出口给我们用，对我们的影响只会是一时的，随着我们自己技术的发展，突破也只会是时间的问题。
这就像一场升级游戏，它们在不断设计关卡给我们，而我们通过自己的努力在不断突破层层关隘，直到彻底打通整个半导体芯片产业链，届时它们将会输得一败涂地，而我们也将收获胜利者的果实。
其实，任何时候阻碍永远不是最好的选择，害怕别人的超越，那就只能想尽办法去竞争，只有不断提升自己的实力，才不会惧怕别人的超越，如果所有的心思都放在阻碍别人的超越的话，那么自己的发展就会停滞不前，当别人拉进和你的距离时，你将脆弱不堪。
你看好我们芯片事业的未来吗？

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