光刻机|光刻机新规终于来了，ASML将彻底无缘大中国市场( 三 )

可能有人觉得不就是28纳米而已，有一些不以为然，但需要知道的是， 28纳米算是一个关键的技术节点，只要突破了28纳米，很快就会来到20纳米甚至是14纳米。并且由于在关键技术上，比如曝光系统、光源有了很好的突破，在未来即便是达到7纳米技术来说，至少在光刻机上，区别还是并不太大的。
在2022年的4月份中，清华大学的朱煜教授做带头的团队，发布公开消息，表示在团队和华卓精科公司的共同突破下，自研光刻机双工作台研发成功，后者则是中国光刻机核心零部件的顶尖供应商，也算是打破了ASML在光刻机双工作台领域的垄断，成为全球第二家拥有此项技术的公司以及团队。

如果我们放到ASML的老路来看， ASML从28纳米的光刻机到7纳米的光刻机，用了5年左右的时间，不出意外的话，我们也需要五到六年时间，才可以有机会突破到7纳米的技术上来。尽管我们的光刻机水平和国外先进技术依然有不少的差距，但进步非常明显，总有一天我们也一定可以追上国际先进光刻机技术的步伐。