京东|多家美企完成光刻机突破，ASML也要被抛弃了？( 二 )

毕竟EUV光刻机产能有限，很多芯片厂商都获取不到，只能利用DUV光刻机来解决问题，而美光科技就利用多重曝光技术，成功推出了1β工艺，有效提升了芯片15%的能效，以及35%的内存密度，接近于EUV光刻机的效果，并且样品已经成功推动给了客户。
ASML还有机会吗利用DUV光刻机的多重曝光，解决高端芯片制造问题，已经不是什么新鲜事了，但要说完全替代EUV光刻机也不现实，就算能够实现也还是能够售卖DUV光刻机实现营收，目前ASML最大的威胁来自Zyvex的电子光束光刻机。

0.7nm只是电子光束光刻机的开始，而这已经是EUV光刻机难以企及的极限了，受到摩尔定律极限的影响，即便能够提升工艺，但在性能上的提升极其有限，因此寻找全新可替代的技术刻不容缓。
而ASML能够拿出手的技术，也只有下一代的NA EUV光刻机了，可用于2nm以下的芯片制造，但随着光子芯片以及超导量子芯片的冲击，已经被证实根本用不到EUV光刻机，仅需DUV光刻机就能满足一切高端需求。

【京东|多家美企完成光刻机突破，ASML也要被抛弃了？】受到芯片限制的影响，全新的技术大量的诞生，未来只需要依靠DUV光刻机就能解决问题，而中国作为全球最大的芯片消耗市场，即将实现光刻机的国产化，因此属于ASML的时代可能真的结束了，对此你们是怎么看的呢？