光刻机|华为KOL：两年前，新式光刻机搞定了新的光源算法，到现在才曝光出来

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这种新的光源算法可以用365nm光源制作22nm工艺，并且新式光刻机与ASML的EUV极紫外光完全不同这是两年前就有的技术，如今两年过去，更强的工艺进行到哪一步了呢？在这个基础上前进一步就是10nm、7nm、5nm 。如果是这样，制裁的影响好像也不是那么大，一步一步来，静待花开，期待早日崛起。
【光刻机|华为KOL：两年前，新式光刻机搞定了新的光源算法，到现在才曝光出来】

网友:说句老实话，现在的手机性能完全超出了实际使用的要求，除了玩机的，大众都是常规的使用，但是系统才是王道，鸿蒙一定要顶住，支付安全，信息安全，这是绝对重要的。

网友:我供职于国内头部光纤激光器企业，年前就有不少能力强超快激光器的同事离职，去了华为做激光光源，希望后续能有好消息传出来。
网友:芯片是个很严重的问题，光刻机也很重要，但实际上现在还远没有到图穷匕见的时候，严谨生产要求下的基础电子元件其实都依赖进口，包括电容电阻这些不起眼的东西。

网友:全世界智商最高人种，这是基因压制，即便老美吸纳全球精英，但是全球智商高的群体加起来也没有我们一个国家多。即便我们起步晚，但仍然可以凭借先天优势实现快速超车。
网友:还需要结合生产效率，据说多重曝光可以做到更小的，但效率就低了，结果就是大规模生产会有问题，而且单价高，希望我们能早点突破，真正实现高性能低成本。