光刻机|EUV光刻机要突破出货封锁了？新厂正式开始扩建，或将专供中企！

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我们国内半导体在先进工艺上的代工上一直有一个难题，那就是EUV光刻机基于阿斯麦需要遵守所谓的规定情况下，并不能出货给我们，于是就导致了先进芯片领域只处于芯片设计进展快，而在代工这一方面还和台积电等企业有很大差距。
从目前老美还准备游说阿斯麦进一步扩大对DUV光刻机限制的情况来看，要期待美松口ASML可以出货EUV光刻机恐怕不太可能。那么我们只有靠两个方面来突破老美对于EUV光刻机出货的封锁。一方面是靠自己研发出高端的光刻机，而另外一方面则是靠“不含美技术”的厂商对我们进行出货。

两种方法相比起第一种来说，第二种的可行性要更高。毕竟光刻机的设计还是相当复杂需要一定的时间。但如果我们靠其他的厂商出货，就可以应对当下的市场需求。只是，在EUV光刻机市场上，除了ASML我们还有第二个选择吗？当然有。

就在近日外媒报道日企佳能的提高光刻机产量的新工厂已经正式开始建立。而有消息称佳能这个工厂是为了以一个更低的成本制造更先进芯片的下一代制造设备。据悉是2021纳米压印光刻机的升级版，能够达到14nm的线宽分辨率，相当于5nm的芯片制程。说通俗点，也就跟EUV光刻机出货差不多。

日企的这个行动，让人不免猜测是不是EUV光刻机就要突破出货上的封锁了？之所以这样说是因为日企跟ASML可不一样， ASML会受到美技术的限制，但是日企不同，从他们光刻机领域发展以来，就一直坚持“一体化模式” ，从研发、设计、材料以及生产等等各方面都偏向于自主化，并不容易受到美技术的限制，以及美专利的一些限制，在这个情况下，只要他们愿意出货是可以突破EUV光刻机对中国市场的限制的。

而就个人认为，如今佳能的扩产也很或将是专供中企。
首先，佳能在老美游说他们也限制光刻机出货范围的时候，他们并未回应，并且还表示他们将加码对中国市场的布局，让更多的中国客户了解他们。言下之意就是他们要抓紧这个中国市场。如此态度之下，连一个可能受技术限制的ASML都反对不出货的要求，就更别说他们还不受限制的情况了。
而且在之前佳能是一直没有往这一方面发展的打算，因为ASML在市场上的影响力已经让他们找不到机会了。但是在中国市场或将被进一步限制的时候，佳能就有了扩产的决定，所以有很大可能是为了专供中企的出货。

其次，中企和佳能等日本光刻厂商也不是没有合作关系。早在过去的两年当中，我们国内也从他们市场上采购了不少二手的光刻机。显然，我们国内市场有所需求。更关键的是，我们国内未来建立的新芯片工厂很多，意味着光刻机的市场正在进一步的扩张，加之我们现在又在为EUV光刻机头疼，那么佳能的扩产目的性也过于强烈了。

【光刻机|EUV光刻机要突破出货封锁了？新厂正式开始扩建，或将专供中企！】于我们而言这是一件好事，但是基于ASML来说恐怕就不是个有利局面，要是EUV光刻机被抢占，很有可能ASML的市场地位就要逐渐被取代了。对此，你们是如何看待这个事情的呢？欢迎留言评论、点赞和分享！