根据此前的相关消息透露 , 光子芯片的性能要比传统的电子芯片提升至少1000倍 , 在功耗上提升也非常的明显 , 最关键的是不需要用到EUV光刻机 , 就能够满足高端芯片生产需求 , 而国内首个光子芯片代工厂也将在2023年投产 。
第三就是超导量子芯片了 , 在本月华为正式公布了这方面的专利 , 从简介当中可以了解到 , 这项技术主要解决了量子比特之间的串扰问题 , 解决了世界性的难题 , 超级计算机的实力想必大家都有听过 , 而超导量子芯片就是基于这项技术建立的 。
而这三项技术都有一个共性 , 那就是不需要高端的光刻机 , 除了芯片堆叠工艺之外 , 目前已有的国产光刻设备 , 就能够满足实际的制造需求 , 而华为在这些领域中取得的诸多技术专利 , 也让中国在全新的芯片领域当中占据主导地位 。
【华为|三个顶尖技术成功突破,助力华为实现芯片“去美化”!】即便在营收大幅下滑的情况下 , 任正非依然坚持拿出总营收的20% , 作为每年的研发经费 , 国内有这样魄力的企业家能有几个呢?相信华为可以解决芯片的完全“去美化” , 对此你们是怎么看的呢?
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