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另外上海新阳采购的ASML光刻机也有多台进入到生产线 ， 对参与国产高端光刻胶的研发都是有巨大帮助的 。
中国芯片在离子注入机、刻蚀机、光刻胶这三大芯片制造环节技术中 ， 都取得了相应的突破进展 。 有研究报告显示 ， 中国将在近两年内实现28nm芯片的自给自足 。 有能力应对中低端成熟工艺芯片的自主研发 ， 生产 。

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总结
国产芯片正在逐步打破西方国家的垄断 ， 在实现技术自主可控这一方面 ， 中国企业持之以恒 ， 势必能助力中国芯片的崛起 。 3个关键芯片制造环节或许只是冰山一角 ， 还有更多的技术 ， 产品及设备都在研制当中 。
中国会掌握更多的芯片制造技术 ， 光刻机、芯片制程等等 ， 都难不住中国半导体 。 相信只要有足够的时间 ， 再大的困难都能一一克服 。
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