光刻机|外媒：EUV光刻机时代开始“翻篇”了( 二 )

但如今摩尔定律已经快要失效了，因为集成电路发展到目前已经遭遇到了物理极限。第一个英特尔处理器只有2300个晶体管，但如今一个处理器上的晶体管数量要以亿来计算。 nm级别的制程工艺或许是我们在电子芯片上可以触摸到的顶点。
因此众多科技巨头都在研究新的发展方向，就目前的情况来看，以通富微电为代表的“粒芯工艺”越来越火热，全球主流的半导体大厂基本上都开始建立起自己的粒芯生态系统。未来这项技术还将进一步发展，对于EUV光刻机被“卡脖子”的中国来说，发展“粒芯技术”具有重要的战略意义。

总结属于EUV光刻机的时代似乎已经开始“翻篇” ，众多国家和国际半导体巨头开始探索新的发展可能。未来的ASML如果不能继续提升光刻机性能的话，将很有可能被市场所淘汰。对于我们来说，这样的发展势头是一个好的现象。
对此，你们有什么看法呢？欢迎在评论区留言讨论。