微软|我国造出新技术路线光刻机，可实现22纳米工艺制程，已经实际应用( 二 )

制造的相关器件已在中国航天科技集团公司第八研究院、电子科技大学太赫兹科学技术研究中心、四川大学华西医院、中科院微系统所信息功能材料国家重点实验室等多家科研院所和高校的重大研究任务中取得应用。
总之，这款表面等离子体超分辨光刻装备的成功研发，打破了传统光刻机的路线格局，形成一条全新的纳米光学光刻技术路线，绕开了国外相关领域的技术壁垒，具有完全自主知识产权，其关键技术指标达到超分辨成像光刻领域的国际领先水平。并且为我国超材料/超表面、第三代光学器件、广义芯片等变革性领域的跨越式发展提供了制造工具，具有重要的现实意义。
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